Efecto de la aplicación de cuatro dosis de Óxido de Silicio y Óxido de Magnesio sobre la absorción de fósforo por plantas de palma aceitera (Elaeis guineensis Jacq) en campo definitivo en la zona de Neshuya, Ucayali

Abstract

El trabajo de investigación se realizó en la zona de Monte Alegre-Neshuya Aguaytía, entre los meses de junio 2016 a setiembre del 2017 en una plantación de palma aceitera de tres años de edad de la variedad Deli x La Mé, con el propósito de evaluar el efecto de diferentes dosis de óxido de silicio y oxido de magnesio en la absorción del fosforo disponible en el suelo y tejido foliar, así como su efecto en los parámetros productivos del cultivo. El diseño empleado fue Bloques completos al azar BCA con 5 tratamientos y 4 repeticiones. El área total donde se realizó el ensayo es de 2.2 ha. Los tratamientos fueron: T1= testigo sin oxido de silicio y magnesio, T2= 100 g de Magnesil por planta, T3= 200 g de Magnesil por planta, T4 =300 g de Magnesil por planta y T5= 400 g de Magnesil por planta. Se concluye que, las variables altura de planta, longitud de hoja, área foliar y peso de frutos por racimo no muestran diferencias entre los tratamientos probados en las cuatro evaluaciones efectuadas. El tratamiento T5 sobresale para el número de racimo de fruto fresco de palma aceitera y rendimiento por ha en la mayoría de las cuatro evaluaciones. De igual manera, al término del ensayo se apreció un aumento significativo del P en el suelo, cuando se aplicó las dosis de los tratamientos T4 y T5, lo que indica el buen desempeño del elemento para favorecer la absorción del P y retenerlo en el complejo coloidal. Finalmente, en relación al contenido foliar de P tanto inicial como final no se aprecia diferencias entre los tratamientos evaluados, lo cual puede indicar un suministro apropiado del P en función de la necesidad de la planta.